에이식 편집하기
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#: 위에서 기술한 과정 중 어떤 특정 블록은 셀 컴파일러에 의한 검파 일된 블록과 같이 이미 레이아웃이 완성된 상태이다. 즉, 하드 블록(Hard Block)인 경우도 있을 수 있는데, 이 경우에는 블록 조정(Block orientation) 과정이 필요하다. 한 블록이 가질 수 있는 방향의 가짓수는 0°, 90°, 180°, 및 270°로 회전시킨 4가지와 반전시킨 후의 4가지 방향이 있을 수 있다. 이 8가지 방향 중 전체 배선 길이 및 전체 칩 면적을 최소화하는 한 방향을 택하는 과정이 필요하다. 레이아웃이 완성되고 나면, 배선에 의한 저항 및 캐패시턴스값을 추출하여 회로를 재 시뮬레이션 하는 과정과 공정 기술에 의존하는 디자인 규칙 검사(Design Rule Check) 및 레이아웃과 스키메틱이 잘 일치하는가를 검증한다.<ref name="에이식"></ref> | #: 위에서 기술한 과정 중 어떤 특정 블록은 셀 컴파일러에 의한 검파 일된 블록과 같이 이미 레이아웃이 완성된 상태이다. 즉, 하드 블록(Hard Block)인 경우도 있을 수 있는데, 이 경우에는 블록 조정(Block orientation) 과정이 필요하다. 한 블록이 가질 수 있는 방향의 가짓수는 0°, 90°, 180°, 및 270°로 회전시킨 4가지와 반전시킨 후의 4가지 방향이 있을 수 있다. 이 8가지 방향 중 전체 배선 길이 및 전체 칩 면적을 최소화하는 한 방향을 택하는 과정이 필요하다. 레이아웃이 완성되고 나면, 배선에 의한 저항 및 캐패시턴스값을 추출하여 회로를 재 시뮬레이션 하는 과정과 공정 기술에 의존하는 디자인 규칙 검사(Design Rule Check) 및 레이아웃과 스키메틱이 잘 일치하는가를 검증한다.<ref name="에이식"></ref> | ||
− | == 에이식 저항 == | + | == [[에이식 저항]] == |
=== 에이식의 독점 === | === 에이식의 독점 === | ||
====채굴 독점으로 인한 중앙 집중화의 위협==== | ====채굴 독점으로 인한 중앙 집중화의 위협==== |